电子束刻蚀系统

电子束刻蚀系统是在半导体工艺，按照掩模图形或设计要求对半导体衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性腐蚀或剥离的技术。电子束刻蚀系统不仅是半导体器件和集成电路的基本制造工艺，而且还应用于薄膜电路、印刷电路和其他微细图形的加工。刻蚀还可分为湿法刻蚀和干法刻蚀。由于曝光束不同，刻蚀技术可以分为光刻蚀、X射线刻蚀、电子束刻蚀和离子束刻蚀。