激光溅射沉积系统

激光溅射沉积系统是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。激光溅射沉积系统四个阶段：1、激光辐射与靶的相互作用；2、熔化物质的动态；3、熔化物质在基片的沉积；4、薄膜在基片表面的成核与生成。激光溅射沉积系统将在半导体薄膜、超晶格、超导、生物涂层等功能薄膜的制备方面发挥重要的作用。