离子辅助脉冲激光沉积系统 Ion-Assisted PLD System

产品简介

通过优化PLD薄膜沉积速率和离子刻蚀速率，新瓷离子辅助PLD系统被用于在非晶或多晶基底上创建双轴织构模板(薄膜)。双轴织构通常是在室温下进行的，这有利于使用许多衬底，否则不允许高质量的薄膜生长。氧化钇稳定的氧化锆(YSZ)和相关材料，氧化镁(MgO)是最常用的织构材料。离子辅助PLD最初被提议用于在金属基底上沉积双轴织化高温超导YBCO薄膜，它可以扩展到许多技术上重要的基底，其中表面织化对应用至关重要。在沉积双轴纹理模板后，活性器件层，如YBCO, PZT, CIGS等可以在应用程序确定的高温下沉积。离子辅助PLD可以被看作是在沉积参数空间不足的情况下，在衬底和活性膜之间发展智能界面的一种方法。在许多应用中，薄膜衬底组合对于器件的应用是至关重要的。然而，如果所选的衬底不允许高质量的薄膜生长，则可能有必要开发一种能够克服衬底结构和化学不相容的智能界面。离子辅助PLD可以通过改变成核过程或生长动力学来创建氧化物或金属的界面。

离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或非晶衬底上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。Neocera 开发了离子辅助的 PLD 系统，该系统将 PLD 在沉积复杂材料方面的优势与 IBAD 能力结合在一起。

产品特点

独立的交钥匙离子束辅助PLD系统。

在非晶和多晶衬底上沉积双轴织构模板。

外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。

用RHEED诊断法沉积织构MgO薄膜。

氧化膜沉积的氧相容性。