脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 PLD System

产品简介

Pioneer 180 PLD系统是一款用于在各种衬底上制备多种材料的高质量外延薄膜、多层异质结构和超晶格的交钥匙PLD系统。该PLD系统与 Pioneer 120 Advanced PLD System系统的主要区别在于，具有更大的沉积模块，有助于 Pioneer 120 Advanced PLD System可能有限的一些升级。Pioneer 180 PLD系统集成了兼容氧的辐射加热台。加热器可兼容1大气压(760托)的氧气，这是一种特性助于制备外延氧化膜，即满足了(i)沉积在氧气中，(ii)沉积后退火在氧气中，以及在接近1大气压的氧气中冷却。衬底连续旋转，并可以负载锁定。Pioneer 180 PLD系统包括一个自动多目标旋转、目标光栅和软件控制的多层和超晶格沉积所需的目标选择。闭环压力控制提供了使用质量流量控制器的精确过程压力控制。干式泵是由机械隔膜泵或涡旋泵支持的涡轮分子泵组合而成。该系统软件(Windows 7, LabView 2013)控制基材加热器，目标转盘，过程压力，系统泵和激光触发。由于衬底可以转移，多种选择变得可行。这些包括但不限于将PLD系统与各种其他沉积平台(如特高压溅射系统)集成，也与super高压分析系统(如XPS/ARPES等)集成。

产品特点

•外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。

•使用原位RHEED诊断技术沉积纳米级薄膜。

•氧化膜沉积的氧相容性。

•升级:离子辅助PLD，组合型PLD，目标衬底负载锁定。

•其他沉积源:脉冲电子沉积(PED)，射频/直流溅射，直流离子枪。

•与XPS /ARPES特高压集群工具集成，原位特高压晶片转移。

•原位诊断:低角度x射线光谱学(LAXS)和离子能光谱学(IES)。

技术参数