磁控溅射离子镀：

磁控溅射离子镀：是将磁控溅射的大面积稳定的溅射源和离子镀技术的高能离子对基板的轰击作用结合起来，在一个装置中实现氩离子对磁控靶的大面积稳定的溅射过程，与此同时，在基板的负偏压的作用下，高能的靶材元素离子在基板上发生轰击、溅射、注入及沉积过程。