分子束外延系统结构

分子束外延系统为一种在物理学、化学、材料科学领域应用的分析仪器。

近十几年来在半导体工艺中发展起来的一项新技术包括分子束外延技术，其在超高真空条件下，类似于真空蒸发镀把构成晶体的各个组分和予掺杂的原子(分子)，通过一定的热运动速度，根据一定的比例由喷射炉中往基片上喷射去进行晶体外延生长而对单晶膜进行制备的一种方法。简称为MBE法。

分子束外延系统结构

样品进样室、预处理分析室和牛K窜等共同组成了分子束外延装置。通过闸扳阀隔开窜间，从而使生长室的超高真空与清洁得以确保。按照分子束外延装置系统的几何结构对真空系统进行相应地配置。按照要求，3个室的真空配置的配置泵的系统并不相同：

1、生长室

真空度为1.33×10-9帕。需要根据生长室的容积大小和所用的生长材料的阵质来进行配置。主泵主要为大抽速离子泵、太抽速闭路循环液氮低温泵、大抽速涡轮分子泵以及大抽速带冷阱的特种油扩散泵等四种泵，而通过钛来对泵进行升华加以辅助。

2、预处理分析室

真空度为1.33×10-8帕，是通过每秒400升抽速的离子泵来获得。

3、进样室

真空度为1.33×10-6到1.33×10-8帕。吸附泵或涡轮分子加离子泵在压力为1.33×10-6到1.33×10-7帕段使用。涡轮分子泵或其他泵加闭路循环液氮低温泵在压力为1.33×10-8帕使用，涡轮分子泵在压力为1.33×10-7帕时使用。