美国SVT RF等离子源/射频等离子源

美国SVT公司的RF等离子源适用于多个公司多种型号。

法兰接口包括： 2.75''、4.5''、6''。

等离子源用于离解双原子氮、氧和氢。离解过程中不会产生高能离子。

产生的束流含有零离子，有助于生长高质量的薄膜，也可以在不损伤衬底表面的情况下清洗衬底。

高生长率等离子体源能够在生长速率大于4μm/hr的情况下生长高质量的薄膜。

光阑和等离子腔形状可以顾客定制，以满足客户对不同流量的需求。

软件作为可选项，能够实现自动操作，允许用户保存数据，编写工艺程序。

特点

可提供N2、O2、H2等离子源

生长速率大于4μm/hr

源设计有等离子体观察窗口

光阑和等离子腔形状可以客户定制

RF自动调节可选