土以“稀”为贵 | 使用NexION 5000 ICP-MS直接测定高纯度二氧化铈中的稀土杂质

稀土元素主要应用于高纯发光材料领域，例如荧光粉、发光粉、晶体材料、光纤材料、光学玻璃和电子材料等。随着光电通信技术的发展，人们对光电材料及电磁材料的需求不断增长，对高纯度稀土的需求也随之快速增长。因此，稀土元素常被称为“工业维生素”。在这些应用中，稀土元素材料的纯度至关重要，因为它可能直接影响Z 终产品的质量、性能和产量。

对稀土元素杂质离子的干扰主要来自于高温等离子体中形成的多原子离子（MO+、MOH+ 、MH+和MOH2+），具备能够使用纯气体（例如纯氨气）作为反应气来消除干扰的仪器在稀土杂质元素分析中优势明显。通过配备真正四极杆的反应池，可以进一步精 准控制池内反应，增强干扰消除能力，避免副产物产生确保不会形成新干扰，从而大大降低背景等效浓度（BEC）和检出限（DL）从而满足这个具有非常高挑战性试验的要求。

多重四极杆电感耦合等离子体质谱仪NexION® 5000

NexION® 5000多重四极杆ICPMS能够准确、直接地测量高浓度、高纯度二氧化铈基质中的14种超痕量稀土元素杂质，证明NexION® 5000可用于满足中国标准GB/T 18115.2-2020和其他类似标准。通过联合使用多重四极杆技术、真正的四极杆通用池利用纯氨气和氧气反应气体，并借助池体四级杆动态带宽调谐使反应在池中可控，消除了La、Pr、Gd、Tb和Lu的Ce多原子干扰，确保结果准确。

分析中观察到的出色分析性能得益于：

四极杆通用池，使用纯度高达100%的纯反应气体消除质谱干扰

多重四极杆模式，可主动控制池中的反应，提高反应的性能和重现性

NexION® 5000 ICP-MS独特的硬件设计大大提高了其基体耐受性和干扰消除能力，可以分析浓缩和具有挑战性的基质

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