使用NexION 5000 ICP-MS直接测定高纯氧化钆中的稀土杂质 Application Note (745526 (705300)_CHN _01)-仪器网
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使用NexION 5000 ICP-MS直接测定高纯氧化钆中的稀土杂质 Application Note (745526 (705300)_CHN _01)

以上这些应用对轧金属的纯度有着极高的要求,因此,针对钊元素痕量杂质的检测能力尤为重要。长期以来,电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)因其低浓度检测能力广受认可,成为测量高纯Gd和其他REE化合物中杂质的首 选技术。


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