大面积金刚石自支撑膜机械抛光新技术2

2. 试 验
金刚石自支撑膜是由本实验室的100KW 级高功率直流电弧等离子体溅射化学气相沉积系统制备而成，沉积金刚石自支撑膜的工艺参数如表1 所示
Table 1 Depositing parameters of the diamond thin film
功率 KW 15
沉积室压强 KPa 4.2
基体温度 ～950
H2 流量 SLM 8
CH4 流量 SCCM 120
Ar 流量 SLM 2
沉积时间 hour 80
基体 Mo
金刚石自支撑膜的直径为60mm，厚度为1mm，生长面的Z初粗糙度Ra 大于12m，并且表面生长不均匀，呈现起伏不平的形貌特征
抛光设备选用沈阳科晶设备制造有限公司的UNIPOL-1502A 型自动研磨抛光机，该设备可无级调速，试样加载为载物盘自身重力加载，铸铁盘选平面盘或带槽平盘，还可同时加工3 个试样达到小批量生产的能力该设备研磨盘旋转平稳，380mm 的研磨抛光盘的跳动范围在5～10m，对试样损害小
金刚石粉选用高温高压爆炸法制备的筛选粉，粒度级别分别是100/120140/170200/230，采用加水研磨，金刚石粉可部分回收
本实验旨在探索新的设备的工艺参数，故尝试不同的转速，不同的金刚石粉颗粒尺寸，不同表面形状的研磨盘，工作固定的时间段，选择Zda磨削量的工艺参数作为结果参数 UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机