大面积金刚石自支撑膜机械抛光新技术3-1

3. 结果与讨论
3.1 不同研磨盘对金刚石自支撑膜磨抛速率的影响
选用粒度为100/120 的金刚石粉分别在带槽盘和平面盘上以50r/min 的转速研磨1 小
时，对金刚石自支撑膜进行粗抛，测量多点相对高度，取平均值评价磨抛速率，不同磨盘
对金刚石自支撑膜磨抛速率的影响如图1 所示
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50r/min
带槽盘
平盘
图1 不同研磨盘对磨抛速率的影响
Fig. 1 the effect of the different lapping plates on the polishing speed
从图1 可以看出，带槽盘对金刚石自支撑膜的磨抛速率快，有利于金刚石自支撑膜的
粗抛过程因为带槽盘的工作原理增大金刚石粉与金刚石自支撑膜的切削力，并且提高金
刚石粉的滚动几率，使得金刚石粉尽可能多地利用尖角磨削，从而提高磨抛速率但是带
槽盘容易产生较多且深的划痕，故而不利于金刚石自支撑膜的细抛平盘对金刚石自支撑
膜的磨抛属于温和型的，采用铸铁盘镶嵌金刚石粉的方式磨削金刚石自支撑膜，对金刚
石膜的切削力主要靠镶嵌力来提供，故而相对恒定，可以促进金刚石膜表面粗糙度的降低，
但磨削速率没有带槽盘大 UNIPOL-1260无级变速调压高精度研磨抛光机