离子刻蚀与沉积系统产品列表
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- 美Nano-master RIE反应离子刻蚀系统NRR-4000
- 品牌：美国Nano-Master
- 型号： NRR-4000, NRE-4000, NDR-4000
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- 美Nano-master IBM离子铣/IBE离子束刻蚀系统NIE-4000
- 品牌：美国Nano-Master
- 型号： NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,
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- NANO-MASTER的IBM离子铣系统或IBE离子束刻蚀系统
- 品牌：美国Nano-Master
- 型号： NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000
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- 磁控溅射系统NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC-1000
- 品牌：美国Nano-Master
- 型号： NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC
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- Nano-Master离子束刻蚀系统NIE-4000
- 品牌：美国Nano-Master
- 型号： NIE-4000
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- 日本Ulvac干法等离子刻蚀装置NE-550Z
- 品牌：日本 Ulvac
- 型号： NE-550Z
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- 离子束刻蚀机
- 品牌：美国Nano-Master
- 型号： NIE-4000，NIR-4000 IBE/RIE
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- PlasmaPro 100 ALE牛津原子层刻蚀机
- 品牌：牛津仪器
- 型号： PlasmaPro 100 ALE
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- PlasmaPro 100 Estrelas牛津深硅刻蚀系统
- 品牌：牛津仪器
- 型号： PlasmaPro 100 Estrelas
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- Ionfab 300 IBE 牛津离子束刻蚀机
- 品牌：牛津仪器
- 型号： Ionfab 300 IBE
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- PlasmaPro 80 PECVD牛津等离子沉积机
- 品牌：牛津仪器
- 型号： PlasmaPro 80 PECVD
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- 牛津OpAL 开放式样品载入ALD设备
- 品牌：牛津仪器
- 型号： OpAL
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- PlasmaPro 80 ICP 英国牛津OXFORD 等离子体刻蚀机
- 品牌：牛津仪器
- 型号： PlasmaPro 80 ICP
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- System 100 等离子刻蚀与沉积设备
- 品牌：牛津仪器
- 型号： PlasmalabSystem 100
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- PlasmaPro 80 RIE 牛津等离子体刻蚀机
- 品牌：牛津仪器
- 型号： PlasmaPro 80 RIE
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- PlasmaPro 80 ICPCVD 英国Oxford 牛津等离子沉积机
- 品牌：牛津仪器
- 型号： PlasmaPro 80 ICPCVD
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