半导体前道晶圆制程产品列表
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- OAI - 光刻机
- 品牌:美国OAI
- 型号: OAI - Mask Aligners & Exposure
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- OAI - 光功率计仪
- 品牌:美国OAI
- 型号: OAI - UV intesnity Meter
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- DENTON VACUUM - 等离子体线性离子束专利
- 品牌:美国海洋光学
- 型号: Patent Plasma Ion Beam linear
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- PVA TEPLA - 晶圆内应力测量系统
- 品牌:德国PVA TePla
- 型号: Wafer Internal Stress Mapping
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- JELIGHT - 紫外线擦除器
- 品牌:美国Jelight
- 型号: JELIGHT - EPROM Erasers
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- CAMTEK - 自动晶圆光学检测 (WAFER AOI) 系统
- 品牌:以色列Camtek
- 型号: WAFER AOI
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- PARATRONIX - 镀膜设备
- 品牌:Paratronix
- 型号: PARATRONIX
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- PMMA & Copolymer (MMA (8.5) MAA) - E-Beam 光刻胶
- 品牌:日本Nippon Kayaku
- 型号: E-Beam
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- PriElex® Jettable Polymeric Materials 可喷墨式低应力聚合介电材
- 品牌:日本Nippon Kayaku
- 型号: PriElex® Jettable Polymeric
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- 镀膜设备
- 品牌:Paratronix
- 型号: Paratronix - 镀膜设备
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- KMPR 1000 系列 -暂时/永 久性高深宽比负型光刻胶
- 品牌:日本Nippon Kayaku
- 型号: KMPR 1000
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- SU-8 TF 6000 光刻胶
- 品牌:日本Nippon Kayaku
- 型号: SU-8 TF 6000
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- SU - 8 3000系列光刻胶
- 品牌:日本Nippon Kayaku
- 型号: SU - 8 3000
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- SU - 82000 系列光刻胶
- 品牌:日本Nippon Kayaku
- 型号: SU - 82000
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- PVA TEPLA - 晶圆表面污染分析系统
- 品牌:德国PVA TePla
- 型号: PVA TEPLA
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- 晶圆/基板/光罩清洗机
- 品牌:UltraT Equipment
- 型号: UltraT - Manual/Automated/Wet