KMPR 1000 系列 -暂时/永久性高深宽比负型光刻胶

KMPR 1000系列-暂时/永 久性高深宽比负型光刻胶

KMPR用作DRIE蚀刻掩模实现高宽比的图案。它还被广泛用作MEMS与生物器件的电镀模具。因KMPR减少了Cross-link密度，在Hard baked前，KMPR比较SU-8容易剥离。KMPR负性光刻胶可在任何（PGMEA），或（TMAH）的显影剂中得到显影。

高宽比成像（>5:1）和垂直侧壁

单一旋涂可达100微米

兼容标准水性显影剂（TMAH）

优异的金属粘附性

优异的电镀镀液稳定性

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