为什么选择等离子清洗？与其他清洗方式相比优点在哪？

文档简介等离子体表面技术的一项重要工艺便是等离子清洗。通过与电离气体发生 化学 反应去除 污染颗粒 。
进行氧化铜还原反应 时，氧化铜将会暴露在氢气的混合气体-等离子体 中，由此使氧化物发生化学还原反应，并形成 水蒸汽。
在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面．以达到清洗目的。