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特邀讲座丨探索电子束辐照敏感材料的显微结构

赛默飞世尔科技分子光谱 2020-04-23

4月29日下午,浙江工业大学化工学院朱艺涵教授应赛默飞世尔科技的邀请,将在赛默飞网络平台举行“探索电子束辐照敏感材料的显微结构”ZT学术讲座。

特邀嘉宾

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朱艺涵,教授,就职于浙江工业大学电镜ZX、化工学院。博士毕业于浙江大学化学系,后加入阿卜杜拉国王科技大学担任研究科学家。研究方向主要包括:低剂量电子显微技术的应用;电子显微技术在纳米催化和能源材料中的应用。担任浙江省分析测试协会电镜与微结构青委会副主任、工业催化联盟青委会委员。目前在Nat. Mater.、Science、Sci. Adv.、Nat. Commun.、J. Am. Chem. Soc.、Angew. Chem. Int. Ed.、Adv. Mater.、Nano Lett.等国际重要期刊共发表论文100余篇,主编图书分册一部以及参与撰写图书章节3部,获国际催化协会青年科学家奖、美国显微学会主席学者奖等。


报告摘要


电子显微技术能在原子尺度以直接成像的方式实现晶体材料周期和局域结构(如表面、界面、缺陷和部分无序等)的研究,然而在面对电子束辐照敏感材料时遇到了极大的挑战。这类材料,如金属有机框架(MOFs)、共价有机框架(COFs)、分子筛(Zeolites)和有机无机混杂材料(OIHM)等,往往在气体吸附和储存、催化、传感、能源储存和转换等领域有着极其重要的应用。电子显微技术是揭示其微尺度构效关系不可或缺的利器。我们将围绕着“探索电子束辐照敏感材料的显微结构”这个主题,介绍电子辐照损伤机制、评价和测量,部分损伤缓解和剂量GX的电子显微技术及方法学进展,并结合代表性研究实例介绍相关材料科学的应用和发现。

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