天目湖先进储能技术研究院&ULVAC-PHI 表面分析联合实验室揭牌仪式

       2019年11月25日，ULVAC-PHI&PHICHINA高德英特（北京）科技有限公司多种表面分析联合应用研讨会暨天目湖先进储能技术研究院&ULVAC-PHI表面分析联合实验室揭牌仪式在江苏溧阳市天目湖豪生酒店成功举办。

       揭牌仪式于上午8:30正式开始，PHI CHIAN叶上远总经理作为本次大会主持人，ULVAC-PHI海外销售总监Nob -uaki Urushihara与天目湖先进储能技术研究院刘啸嵩院长分别致辞。

       Urushihara总监介绍了ULVAC-PHI在表面分析领域50年的发展历史。ULVAC-PHI专注于高灵敏、高能量分辨和高空间分辨技术研发，开发了一系列具有独特技术优势的表面分析设备，包括X射线光电子能谱(XPS)、反光电子能谱(IPES)、俄歇电子能谱（AES）、飞行时间二次离子质谱（Tof-SIMS）以及串联质谱(Tandem MS/MSMS) 等，这些分析设备可以提供元素组分、化学态、电子结构等关键信息，为表面特性研究及材料/器件性能提升起到了重要的作用。此次与天目湖先进储能研究院联手创办表面分析联合实验室，旨在结合ULVAC-PHI的表面分析仪器及研发实力，共同推动储能事业的发展。

ULVAC-PHI海外销售总监Nobuaki Urushihara

       刘啸嵩院长介绍了天目湖先进储能技术研究院有限公司的基本情况，该研究院由ZG科学院物理研究所与江苏中关村科技产业园联合签约创建，位于江苏常州溧阳。物理所陈立泉院士出任名誉院长，李泓研究员任院长。研究院集测试分析、失效分析、资质认证、技术开发、工程放大、智能制造、高价值信息服务、高端培训为一体，是一家独立第三方新型研发机构，同时也是储能技术开放型孵化基地。

刘啸嵩院长致辞照片

       致辞过后，由天目湖先进储能技术研究院刘啸嵩院长与ULVAC-PHI PHI ULVAC-PHI海外销售总监Nobuaki Urushihara及应用技术总监Takuya Miyayama、PHI CHIAN叶上远总经理共同为联合实验室揭牌。

从左至右：叶上远、Takuya Miyayama、Nobuaki Urushihara、刘啸嵩

       在仪式之后的“ULVAC-PHI&PHICHINA高德英特（北京）科技有限公司多种表面分析联合应用研讨会”上，各位专家、学者分别带来了精彩的报告。

       报告结束后，参会嘉宾在PHI CHINA总经理叶上远的带领下参观了联合实验室。

Nobuaki Urushihara（左）、Takuya Miyayama（右）在实验室挂牌前合照

各位与会专家学者参观研究院

PHI CHINA叶上远总经理讲解AUGER

PHI CHINA鞠焕鑫讲解XPS

PHI CHINA辛国强讲解TOF-SIMS