请问：特性x射线与荧光x射线的产生机理有何不同？

特征x射线为电子击靶，使原子内层电子击出，外层电子跃迁而激发出x射线；荧光x射线为x射线照射使原子内层电子激发，外层电子跃迁而发出x射线，也叫二次特征辐射。特征x射线由原子序数决定，所以波长一样

没有。均为激发态原子退激时辐射的X射线。

没有区别，特征X射线是电子束轰击靶材料的内层电子，形成空轨道，原子处于激发态，外层电子跃入空轨道同时辐射出X射线。