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磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪

磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪 磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪是指将涂层材料做为靶阴极,利用氩离子轰击靶材,产生阴极溅射,把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术。磁控溅射是物理气相沉积的一种。磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪已被大量应用的领域,还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。

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