磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪

磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪是指将涂层材料做为靶阴极，利用氩离子轰击靶材，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术。磁控溅射是物理气相沉积的一种。磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪已被大量应用的领域，还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。