江苏磐石小型磁控溅射镀膜机

设备简介

PS-200单靶磁控溅射镀膜机主要由真空室、磁控靶、旋转基片架、真空系统、机架、电器控制等几大部分组成。可用来制备导电膜、金属膜、介质膜、半导体膜、绝缘膜、多层膜等。设备结构紧凑，占地面积小适合高校实验室及科研院所。

环境要求
供电：AC220V，功率≥20KVA
独立地线：＜3Ω，从设备到地线连接建议采用≥10mm2 的扁平铜线
供水：流量≥10L/min       水温0～25℃
室温：＜30℃
相对湿度：＜75%
高纯氩气
室内无腐蚀易燃、易爆、有毒气体，无大的尘埃。

技术参数