外延科技 超高真空磁控溅射PVD

超高真空磁控溅射

磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)的一种。

磁控溅射可 实现高速、低温和低损伤的物理沉积，用于 制备金属、半导体，绝缘体等多种材料。

因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带 电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射速率。