磁控溅射样品处理

【概述】

电子在电场的作用下，飞向基片过程中与气体原子发生碰撞，使其电离产生出气体正离子和新的电子；新电子飞向基片，离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子借助于靶表面上形成的正交电磁场，被束缚在靶表面特定区域，增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射。

主要应用：

适用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜（金膜、铂金、银、镍、铜等），仪器操作简单方便，是配合各类型扫描电子显微镜制样必备的仪器。是制备低维度，小尺寸纳米材料器件的必备实验手段，广泛应用于集成电路，光子晶体，低维半导体、微生物、超微膜材料等领域。

配套世界主流扫描电子显微镜厂家：

热电（美国原荷兰）FEI钨丝阴极、场发射、飞纳台式等各类型电子显微镜，蔡司（德国）钨丝阴极、场发射各系列的扫描电子显微镜，JEOL（日本电子）各类电镜，日立（日本）各系列电镜、台式电镜，TESCAN泰斯肯（捷克）各系列电镜，还有如韩国“赛科”、COXEM库赛姆、MIRERO等电镜品牌及所有需要样品前期处理，提高成像质量、增强导电性能等表面镀膜处理的样品制备工作。

【实验/设备条件】

扫描电镜、场发射、能谱仪定性定量分析

【样品提取】

切割机---切割样品--超声清洗---干燥（生物样品需临界点干燥）---放置样品杯

【实验/操作方法】

所需设备小型离子溅射仪（ISC--1000CK）

升级型低温磁控型