详细信息
Plasma Source等离子体源
离子源类型 | 特征 | 应用 | 选项 |
Plasma Source等离子体源1: NANO-MASTER 淋浴头等离子体源SH-1000 | 射频淋浴头等离子体源 气体通过射频板 二级板将其他气体引入等离子体 水冷却 至大600瓦 可在0.02托至8托之间操作 8英寸有效区域 ISO 250法兰
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2: 空心阴极13.56 MHz射频等离子体源 | | 等离子增强化学气相沉积 等离子聚合 等离子清洁 等离子刻蚀 表面改性
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3: SLAN(SLot ANtenna)2.45 GHz微波等离子体源 | | 等离子增强化学气相沉积 等离子聚合 等离子清洁 等离子刻蚀 表面改性 材料科学
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4: 电感耦合等离子体源ICP-P 200(13.56MHz) | 200毫米直径的平面线圈 扩展功率范围在3-1200瓦 低能量扩散 高浓度高活性等离子体 低污染 等幅波和脉冲电源
| 等离子增强化学气相沉积 等离子聚合 等离子清洁 等离子刻蚀 表面改性
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产品优势
NANO-MASTER (那诺-马斯特)可根据客户需求,提供合适的Plasma Source等离子体源,可以是空心阴极等离子源,也可以是感应耦合等离子源。等离子源可应用于离子辅助镀膜、等离子聚合、等离子清洁、等离子刻蚀、表面改性以及其他材料科学的研究等等。