CMP Slurry 过滤试验

需要控制化学机械平面化(CMP)泥浆，以减少晶圆表面的微划痕，从而降低良率值。目标是减少大粒子数(LPC)，同时保持主要粒子群不变。这可以通过过滤和监测相结合来实现。Entegris 现在提供过滤器和粒度分析仪，以适当控制CMP浆料粒度分布，以ZD限度地提高产量。