来源:
那诺—马斯特中国有限公司时间:
2022-08-16类型:
仪器操作与维护查看:
163NANO-MASTER的大基片清洗机(LSC)是一个独立式的兆声清洗系统,可支持高达21"OD的基片。相较SWC可通过触摸屏实现更好的控制,且允许操作人员、工程师、维护人员等访问权限。LSC具有与SWC相同的兆声清洗技术和化学液清洗。LabView控制和更大工艺腔体的组合,可支持更多的选配项,如臭氧化DIW、高压DIW、带保护膜的分划板清洗和白骨化清洗。同样支持显影和刻蚀应用。单晶片和Cassette机械手自动上下片可选择。
设备特点:
支持对角线21"、15"×15"基片和450mm圆片
无损兆声清洗
不同速度的PVA刷子
化学液分布,带回吸阀
旋转甩干,带热氮
双排放口,酸和溶剂独立排放
全自动计算机控制,菜单驱动
触摸屏用户界面
手动上下片,可升级为自动
安全联锁和警报
小占地面积32" D×28"W
选配项:
硅片和蓝宝石片清洗
后CMP晶圆片清洗
带晶圆框架的芯片清洗
FSI清洗
显示平板,ITO涂层显示屏清洗
带图案及无图案掩模板清洗
带保护膜分划版的背面清洗
薄膜结构胶粘剂清洗
光刻胶涂覆、剥离和Piranha去胶
背面多晶去除
显影和其它刻蚀应用