成膜机理：

①离子束溅射：在真空状态下，用离子束轰击靶表面，使溅射出的粒子在基片表面成膜，该工艺较为昂贵，主要用于制取特殊的薄膜。
②阴极溅射：主要利用低压气体放电现象，使处于等离子状态下的离子轰击靶面，溅射出的粒子沉积在基片上。