400K的和13.56Mhz的等离子清洗机机有什么不同， 各用在什么行业

常用的等离子体激发频率有三种：激发频率为 40kHz的等离子体为超声等离子体，13.56MHz的等离子体为射频等离子体，2.45GHz的等离子体为微波等离子体。
不同等离子体产生的自偏压不一样，超声等离子体的自偏压为1000V左右，射频等离子体的自偏压为250V左右，微波等离子体的自偏压很低，只有几十伏，三种等离子体的机制不同。超声等离子体发生的反应为物理反应，射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应，微波等离子体发生的反应为化学反应。但因为40KHz为较早的技术，其射频匹配后能量消耗过大，实际作用到清洗物上的能量不足原有能量的1/3。所以实际应用中大多采用13.56MHz射频等离子体清洗，这个频率也是现在国际上Z流行的，价格也是Z高的。

40KHz与13.56MHz之间的差别
40KHz等离子体在能量转化方面优于13.56MHz，前者将更多的能量转化为粒子动能及化学活性，后者在等离子处理过程中产生的热量比较多，也就是其中很多能量转化为了热能，所以就降低了粒子的动能及化学活性。处理的效果就会不理想，或者是需要加特殊气体和增加处理时间等等，我们的设备很多时候用空气处理就能达到要求的效果，这是很多其他同类设备无法达到的。13.56MHz等离子体电场中的频率振荡较高，相对于40KHz射频等离子而言电子在转变方向之前的运动距离更短。这意味着在每个运动周期中能够到达器件表面的粒子数量更少，因此表面受到粒子撞击减少，从而降低了清洗的效率和效果，直接影响产品质量和产量。40KHz射频等离子体是Z广泛使用和通用性好的等离子体技术，它应用于半导体、微电子、YL和通用工业的宽广领域内。在通用工业、半导体、微电子、YL行业，需要清洁、涂覆或化学改性的材料表面被浸入到射频等离子体的能量环境中，除了40KHz射频等离子体的强烈的化学作用外，其携带动量的粒子到达材料表面后可以物理地去除更加化学惰性的表面沉淀物（如金属氧化物和其它无机物沉淀）以及交联聚合物以达到清洁、活化目的。

望采纳

主要是看清洗什么产品， 如果是敏感元件的话， 建议用13.56的， 如果是需要清洗的程度大一点可以用400的， 400的一半用在LED直插式的支架上， 13.56的一般用在IC 行业。

上面的回答非常的专业，因为自偏压的问题，所以在光电器件，混合电路，传感器，半导体，MEMS的清洗现在有一种趋势，就是大家将来都会使用微波等离子清洗机

等离子清洗机主要是用在光电器件，混合电路，传感器，半导体，MEMS的清洗，上海双岸电子专业代理等离子清洗机。有什么问题的话，可以电话咨询