影响粉末衍射花样谱线位置数目和强度有哪些因素

与衍射图谱整体强度相关的有:
入射光强度: 即打到样品上的X射线强度，入射光强度越强，图谱整体强度越强.这个与狭缝/光栏的选择有关系，狭缝/光栏越大，入射光强度越强;也与光管的使用功率有关系，功率越高，入射光越强.
样品面积: 当打到样品上的X射线光斑面积大于样品面积时，样品的面积越大，参与衍射的样品量就越多，图谱整体强度越高.
每步计数时间: 即每个数据点上的累计时间.在测量时，每个点上累计的时间越长，图谱整体强度越高.
探测器端开口大小: 开口越大，探测器接收到光子越多，图谱整体强度越高.