石英坩埚

我公司生产的石英坩埚是采用国际Z先进的生产工艺电弧法生产，半透明状，是拉制大直径单晶硅，发展大规模集成电路必不可少的基础材料。坩埚外侧是一层具有高气泡密度的区域，称为气泡... 我公司生产的石英坩埚是采用国际Z先进的生产工艺电弧法生产，半透明状，是拉制大直径单晶硅，发展大规模集成电路必不可少的基础材料。坩埚外侧是一层具有高气泡密度的区域，称为气泡复合层，内侧则是一层3~5mm的透明层，称之为气泡空乏层。气泡复合层的目的是在与均匀的辐射有加热器所提供的辐射热源。气泡空乏层的目的在于降低与溶液接触区域的气泡密度，而改善单晶生长的成功率及晶棒品质。 喷涂工艺的的增加可以大幅度的改善石英坩埚的使用寿命及长晶良率。同时可以增加石英坩埚的强度，减少高温软化现象，延长使用寿命。 我公司生产的石英坩埚常年供应给塞维等使用，是塞维公司常年合作伙伴。我公司生产的石英坩埚成晶率在80%—85%左右。规格有10、12、14、16、18、20、22吋。 欢迎广大客户联系： jjwking@163.com