真空镀膜技术靶材可以是粉体吗

有的好多，主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面， 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用QL磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化， 造成靶与氩气离子间的撞击机率增加，