企业性质生产商
入驻年限第5年
电子枪: | 六硼化铈 |
Phenom ParticleX TC
飞纳 Phenom ParticleX 全自动清洁度分析系统 以台式扫描电镜和能谱仪为硬件基础,可以全自动对颗粒或杂质进行快速识别、分析和分类统计,为客户的研发以及生产提供快速、准确和可靠的定量数据支持。该过程完全符合 ISO 16232 和 VDA 19 要求。
传统的清洁度分析方法(重量法和光镜法)只能提供清洁部件上大颗粒灰尘和碎片的总体重量或形状信息,而不能全面分辨颗粒的污染源。Phenom ParticleX 取代传统颗粒物清洁度检测方法,允许工程师看见微米尺寸的颗粒并确定其化学成分,从而判断出污染源。
借助 Phenom ParticleX 全自动清洁度分析系统,只需一键,即可自动分析 4 片直径 47mm 的滤膜,并且自动生成报告,更有效率地监控过程清洁度。
规格参数
光学放大 | 3 - 16 X |
电子光学放大 | 80 - 200,000 X |
分辨率 | 优于 10 nm |
数字放大 | Max. 12 X |
光学导航相机 | 彩色 |
加速电压 | 4.8 Kv - 20.5 Kv 连续可调 |
真空模式 | 高分辨率模式 降低核电效应模式 高真空模式 |
探测器 | 背散射电子探测器 二次电子探测器 (选配) |
样品尺寸 | 最大 100 mm X 100 mm 可同时装载 36 个 0.5 英寸样品台 |
样品高度 | zui高 65 mm,样品高度全自动调节 |