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C11627-01 纳米膜厚测量仪系列
C11627-01型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学工作的非接触型膜厚测量系统。因其将光源、分光光度计和数据分析单元集成为一个单元，所以其配置紧凑，仅由一个主单元和光纤组成。此仪器设计紧凑，节省空间，适合安装进用户的系统中，可进行多种目标的测量。此外，该仪器为无参照物测量，因此省略了烦人的参照物测量，可长时间稳定地进行高速、高准确度测量。欢迎您登陆滨松ZG全新中文网站http://www.hamamatsu.com.cn/查看该产品更多详细信息！
特性
无参照物工作
尺寸紧凑，节省空间
高速、高准确度
不整平薄膜精确测量
分析光学常数（n,k）
可外部控制
参数
| 型号 | C11627-01 |
| 可测膜厚范围（玻璃） | 20 nm to 50 μm*1 |
| 测量可重复性（玻璃） | 0.02 nm*2 *3 |
| 测量准确度（玻璃） | ±0.4 %*3 *4 |
| 光源 | LED |
| 测量波长 | 420 nm to 720 nm |
| 光斑尺寸 | Approx. φ1 mm*3 |
| 工作距离 | 10 mm*3 |
| 可测层数 | 最多10层 |
| 分析 | FFT 分析，拟合分析，光学常数分析 |
| 测量时间 | 19 ms/点*5 |
| 光纤接口形状 | FC |
| 外部控制功能 | RS-232C,Ethernet |
| 电源 | AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz |
| 功耗 | 70W |
*1：以 SiO2折射率1.5来转换
*2：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差
*3：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率
*4：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中
*5：连续数据采集时间不包括分析时间
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