C11295 多点纳米膜厚测量仪

品牌：日本滨松
型号：C11295
产地：日本
供应商报价：面议
产品分类：薄膜测厚仪

滨松光子学商贸（中国）有限公司

企业性质生产商

入驻年限第9年

营业执照已审核

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C11295 多点纳米膜厚测量仪

C11295型多点纳米膜厚测量系统使用光谱相干测量学，用以测量半导体制造过程中的薄膜厚度，以及安装在半导体制造设备上的APC和薄膜的质量控制。C11295可进行实时多点测量，也可以在膜厚测量中同时测量反射率（透射率）、目标颜色以及暂时变化。欢迎您登陆滨松ZG全新中文网站http://www.hamamatsu.com.cn/查看该产品更多详细信息！

特性

多达15点同时测量
无参照物工作
通过光强波动校正功能实现长时间稳定测量
提醒及警报功能(通过或失败)
反射(透射)和光谱测量
高速、高准确度
实时测量
不整平薄膜精确测量
分析光学常数（n,k）
可外部控制

参数

型号	C11295-XX^*1
可测膜厚范围（玻璃）	20 nm to 100 μm^*2
测量可重复性（玻璃）	0.02 nm^{3 4}
测量准确度（玻璃）	±0.4 %^{4 5}
光源	氙灯
测量波长	320 nm to 1000 nm
光斑尺寸	Approx. φ1 mm^*4
工作距离	10 mm^*4
可测层数	最多10层
分析	FFT 分析，拟合分析
测量时间	19 ms/点^*7
光纤接口形状	SMA
测量点数	2~15
外部控制功能	Ethernet
接口	USB 2.0（主单元与电脑接口） RS-232C（光源与电脑接口）
电源	AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz
功耗	约330W（2通道）~450W（15通道）

*1：-XX，表示测点数

*2：以 SiO2折射率1.5来转换

*3：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差

*4：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率

*5：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中

*6：卤素灯型为C11295-XXH

*7：连续数据采集时间不包括分析时间