Hitachi Q150T Plus 系列全自动高真空离子溅射镀膜仪

150T Plus为紧凑的分子涡轮泵镀膜系统，适合SEM、TEM及许多薄膜应用。

150T Plus  集成了溅射和碳蒸镀两种沉积镀膜功能的高分辨镀膜系统

新款改进

● 触摸屏更换成便于操作的电容触摸屏

● 固件更新，新版操作界面类似安卓系统，便于客户上手

● 新的彩色LED可视状态指示灯

● 双核ARM处理器，可快速响应

● USB接口可以用于固件更新，并可将镀膜方案文件备份/复制到USB存储设备

● 可以通过USB端口以.csv格式导出过程日志文件，以便统计分析

主要特点:  

● 金属溅射或碳蒸发一体化设计，节省空间

● 适合FE-SEM制样的精细镀膜和薄膜应用

● 涡轮分子泵高真空系统，适合不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材

● 全自动触摸屏控制，快速数据输入，操作简单

● 可储存多个客户自定义镀膜方案：对多用户实验室十分理想

● 预编程自动真空控制

● 使用膜厚监控选件精确控制膜厚

● 智能系统识别，自动感知用户所插入镀膜头的类型

● 高真空碳蒸镀，对SEM和TEM镀碳膜应用非常理想

● 先进的碳棒蒸镀枪设计和电流控制技术，操作简单，重现性好

● Drop-in式快速换样品台（标配旋转台）

● 真空闭锁功能，让工作腔室在待机使用时亦处于真空状态

● 不破坏真空条件下的溅射时间可长达60分钟，适合材料科研应用

● 人体工程学设计，整体成型机壳，维护、拆装容易

技术参数:   

● 工作腔室：165mm外径 x 127mm高

● 触摸屏全图像用户界面

● 靶材：标配直径57mm x 厚0.3mm Cr靶

● 样品台：标配旋转台，直径60mm，转速8-20 rpm ，可选配旋转倾斜台。

● 真空系统：

涡轮分子泵：带有空气冷却的涡轮分子泵

旋转机械泵：双程旋转机械泵

● 极限真空度：5 x 10-5mbar

● 溅射真空度： 5 x 10-3 到 5 x 10-1mbar之间

● 溅射电流：0-150mA；可预设膜厚或使用内置定时器（选配）

● 溅射时间：最长60分钟

● 碳蒸发：稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发，确保碳棒可重复蒸碳，电流脉冲1~90A。

● 尺寸和重量：仪器机箱585mm宽x 470mm长 x 410mm高 (总高: 650mm)