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金属有机化合物化学气相沉积

科睿设备有限公司

企业性质生产商

入驻年限第5年

营业执照已审核
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※ 应用方向:氧化物、氮化物、碳化物、二维硫族化合物 等。 

※ MOCVD系统使用固体、液体金属有机源,在不同衬底上沉 积氧化物 氮化物 III-V族和II-VI族膜层。 

※ 1~4英寸MOCVD系统。 

※ 专为满足科研单位需求而设计。 

※ MOCVD配有前驱体直接处理单元,用于外延材料的研发 和制备。 

※ MOCVD腔室中的红外灯加热系统可实现在线退火工艺。

 ※ 高性价比,满足多种应用需求。

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