企业性质一般经销商
入驻年限第3年
laurell匀胶机650系列
产品描述:
过程控制器:650 系列过程控制器采用强大的微处理器,并且使用其随附的 PC 软件(以面向对象编程语言编写),在过程定义和使用方面实现了几乎闻所未闻的灵活性。该控制器允许操作员在过程执行期间实时交互,包括暂停时间,停止和从该点继续。该系统可以并且将在现场轻松快速地不断更新,并提供可下载的固件修订版。
650系列控制器也可以与带有Spin 3000的PC配合使用,Spin 3000是Laurell独有的过程管理软件。但是,编程或运行设备不需要这样做。使用PC增加了在运行过程中记录过程的能力,远程操作,编程或通过LAN或Internet进行通信。该软件无需额外费用即可提供,允许操作员创建虚拟过程模拟,甚至超出实际安装的硬件旋转处理器,实际上,让他们在承诺过程之前尝试一下。所有 650 系统都可以升级或重新利用,无需返回工厂,只需使用简单的插件模块(无论是实际还是虚拟),并且可以包含几乎无限数量的流程和步骤。
Laurell 独特的内部转鼓设计消除了飞溅,无需安装"飞溅环"。我们的排气排水适配器带有可拆卸的油箱,功能强大,方便快捷。
封闭式转鼓设计与工艺控制器的精度相结合,使大多数涂层材料能够在静止状态下干燥,从而提高均匀性并醉大限度地减少颗粒污染。上充气室在底座内部关闭以提供重叠的密封,盖子内部有一个特殊的排水沟,将流体引导到系统的后部,以防止化学品意外滴落到基板上。
专有的迷宫式密封件可保护电机和控制电子设备免受化学污染。该密封件为工艺腔室提供了氮气吹扫,并已在现场测试期间被证明在亚微米级上无颗粒。该系统的盖子具有耐化学性,并且在整个系统中的一些未接液区域仅使用ECTFE涂层的316不锈钢螺钉。
安全:
与操作员完全电气隔离,万无一失的门联锁,以及ETL认证,UL和CSA认证的组件确保了多年的安全,无故障性能。联锁装置可防止在真空开关未接合和盖子打开时旋转。所有Laurell系统都符合CE和RoHS标准,所有证书都随每个系统一起发送。
过程保障:
所有Laurell过程控制器的"过程保护"功能确保相同的过程不会无意中在同一基板上运行。可以很容易地绕过此功能以再次运行相同的进程,而无需打开系统,或者可以一遍又一遍地运行序列(循环)。
所需设施
N2过程/密封吹扫:
需要 60–70 PSIG (4–5 bar) 的氮气/CDA来对迷宫式电机密封件加压。这种气体还会吹扫工艺腔室。气体消耗非常低,每小时3立方英尺(0.085米)3/小时)用于我们的标准电机,每小时 20 立方英尺(0.566 米)3/小时),用于我们的高性能电机。提供 10 英尺(300 厘米)的 3/16 英寸 (~4 毫米) 内径 X 1/4 英寸 (~6 毫米) 外径PE管。
真空:
建议在 0 英寸汞柱下真空 25–28 英寸(~635–711 毫米)汞柱,流量为 4.5 SCFM(0.127 立方米/分钟)。 提供 10 英尺(300 厘米)的 3/8 英寸(~9.5 毫米)外径 X 1/4 英寸(约 6 毫米)内径PE管。
功率:
95 到 240VAC, 47/63HZ, ~300 瓦
支持的流程:
HL系列通常用于溶剂型、碱型或酸性加工的手套箱:涂层、蚀刻、显影、漂洗-干燥和清洁。虽然所有这些过程都得到支持,但劳雷尔建议仅使用一次性,因为已知的材料冲突。例如,光刻胶和显影剂(交叉污染),以及 SC-1 和 SC-2(HCl + NH4OH),会产生 NH4Cl,吸入危险。 提供许多手动和自动分配选项。
技术参数:
型号 | 类型 | 控制器 | 醉大基板尺寸 | 醉大转速 | 安装选项 |
650 系列 | |||||
WS-650-23B | 旋转涂布机 | 650 系列 | ?150毫米(5英寸×5英寸) | 12,000 转/每分 | 桌面, 甲板内, 甲板上 |
WS-650-8B | 旋转涂布机 | 650 系列 | ?200毫米(7英寸×7英寸) | 12,000 转/每分 | 桌面, 甲板内, 甲板上 |
WS-650-15B | 旋转涂布机 | 650 系列 | ?300毫米(9英寸×9英寸) | 12,000 转/每分 | 桌面, 甲板内, 甲板上 |
EDC™系列 | |||||
EDC-650-23B | 电子数据控制系统 | 650 系列 | ?150毫米(5英寸×5英寸) | 12,000 转/每分 | 桌面, 甲板内, 甲板上 |
EDC-650-8B | 电子数据控制系统 | 650 系列 | ?200毫米(7英寸×7英寸) | 12,000 转/每分 | 桌面, 甲板内, 甲板上 |
EDC-650-15B | 电子数据控制系统 | 650 系列 | ?300毫米(9英寸×9英寸) | 12,000 转/每分 | 桌面, 甲板内, 甲板上 |