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CVD管式炉的应用领域以及特点

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   CVD管式炉应用领域:

  CVD管式炉广泛适用于高、中、低温CVD工艺,例如:碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等;也可适用于金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下热处理.

  CVD管式炉产品特点:

  CVD管式炉专门设计用于高温材料沉积之用。硅钼棒加热、刚玉炉管炉膛,可预抽真空,便于通入参加反应的气体,CVD管式炉进口单回路智能温度控制仪控制、温区设计隔板结构。具有温度均匀、控制稳定、温区间温度扰动孝升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点,是理想的科研设备。

  1、外观采用耐高温、耐腐蚀油漆处理。

  2、控制台采用智能PID数显控制器、稳定性好、精度高,配有电流表、结构新颖。

  3、炉门采用加厚、加固处理,CVD管式炉价格,防止变形

  4、炉衬采用高纯氧化铝和保温棉,保温效果好

  5、炉膛温度时时检测功能(不加热情况下同样显示炉膛实际温度,便于随时观察炉膛温度情况)。具有过载保护和短路保护

  6、炉壳选用优质钢板折边焊接制成,CVD管式炉厂家,工作室为耐火材料制成的炉膛,加热元件置于其中,炉与壳间用保温材料砌筑。


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2004-08-01
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