NexION 300S ICP-MS测定半导体级硝酸中的杂质

任何金属杂质的存在都将对IC器件的可靠性产生不利影响在半导体实验室进行其他半导体材料分析时也常常会使用硝酸，因此使用的硝酸需要具有高纯度和高质量由于具有快速测定各种工艺化学品中超痕量浓度待测元素的能力，电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）已成为了质量控制不可缺少的分析工具然而，在传统的等离子体条件下，往往存在氩离子与基质成分结合产生多原子干扰的情况使用多极和非反应气体的碰撞池已被证明可以有效减少多原子干扰但是这种方法必须使用动能歧视去除反应产生的副产物，这将会造成灵敏度的下降NexION 300 ICP-MS配置的通用池技术同时提供了碰撞模式反应模式和标准模式三种测定模式，因此仪器操作人员可以根据实际测定的要求选择Z适合的模式，并能在一个分析方法中进行不同模式的切换本应用报告证明了NexION 300ICP-MS去除干扰，从而在使用高温等离子体的条件下通过一次分析就能够对HNO3中全部痕量水平的杂质元素进行测定的能力这一实验在一次测定中同时使用标准模式和反应模式可以得到**的分析结果 PerkinElmer 等离子质谱仪