瑞士万通络合滴定法测定铜电镀槽液中的Cu2+含量
应用领域: 电镀
关键词: 905,电位滴定法,电镀槽液,Cu2+
样品: 铜电镀槽液,蓝色透明液体
设备和附件:
905 Titrando, 801 Stirrer, 800 Dosino, 6.0502.140 Ion-selective
electrode, Cu, 6.0726.100 Ag/AgCl Reference Electrode
样品处理:
氢氧化钠溶液:c ( NaOH ) = 2 mol/L
氨-氯化铵缓冲液:pH=10, 滴定剂:c ( EDTA ) = 0.1 mol/L
文件大小:141.46KB
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