使用 Agilent 8900 ICP-MS/MS分析高纯度铜中的超痕量杂质

本应用介绍了一种使用串联四极杆 ICP-MS (ICP-MS/MS)测量高纯度铜中超痕量杂质的新方法。针对 Agilent 8900ICP-MS/MS 开发出一种可选的离子透镜（称为“m 透镜”），从而能够在耐受基质的高功率等离子体条件下对超低浓度的碱金属进行测量。m 透镜具有优化的几何结构，可z大程度减小沉积在 ICP-MS 接口组件上的 EIE 背景信号。