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安捷伦科技(中国)有限公司时间:
2020-05-09行业:
电子/电气/通讯/半导体 半导体有机溶剂中痕量元素的分析对 ICP-MS 来说存在着一些挑战,其中许多难题借助 安捷伦的 7700 系列四极杆 ICP-MS 系统的先进技术如 Peltier 冷却雾室,快速 变频阻抗匹配固态 RF 发生器以及八极杆碰撞反应池 (ORS3 ) 已得到了不同程度的 解决。然而,即便有了这些先进技术,有机溶剂中某些元素的分析仍然十分困 难,尤其是硅、磷和硫。这三个元素都会受到来自碳、氮和氧的多原子离子的 严重干扰,而这些干扰是常规 ICP-MS 很难完全消除的。比如 CO、COH、N2 和 NO 对 Si 28、29 和 30 的干扰,COH、NOH、N2 H、NO 和 CO 对 P 31 的 干扰,以及 O2 、NO、NOH 和 NOH2 对 S 32 和 34 的干扰。此外,磷和硫的第 一电离能 (IP) 很高,分别为 10.5 eV 和 10.4 eV,因此灵敏度比其它一般元素要 差(一般元素的 IP 大约为 6-8 eV)。