精密研磨抛光机
适用于纳米材料、半导体、材料科学领域的样品
产品制造国
匈牙利
样品类别
纳米材料、半导体、材料科学领域
产品特色
? 坚固耐腐蚀的设计
? 精密控制抛光转速
? 快速置换样品的设计
? 自动研磨抛光的定时器
? 对于易碎的TEM样品和较小的SEM样品,极轻的负担
产品应用
Micropol MC 3不仅适用于金相抛光,而且其特别设计也适用于TEM样品抛光处理。Micropol MC 3配置有两种样品台,分别适用于制备平面或凹陷状的样品。
产品操作
Micropo的机械臂移动样品台或样品本身,并以半随机的几何图案轻压接触到含有研磨材料的碗的底部。 研磨料可以是研磨砂纸或是沉积在抛光布上的抛光剂悬浮液。
产品参数
电源输入: 100 - 240 V AC, 50-60 Hz
电源功率: max. 85 W
研磨盘转数: 30 - 60 scans/min, 电子可调式
负重: 0 - 5 N, 机械可调式
时间控制: 1 - 3600 sec, 电子可调式
zui大样品尺寸: 约10 - 15 mm直径
移动质量: zui大 150 g
上海科学仪器有限公司
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