详细信息
单蒸发皿程控镀膜仪
基于客户需求设计的一款针对电极制备和有机物发光LED的镀膜设备，较常规产品，该产品新增旋转样品台和程序控温功能。精确控制温度200℃-1500℃，较大可蒸镀直径50mm薄膜样品，可用于制备金属薄膜和有机物薄膜。
产品特点
光洁真空腔室：采用直径210mm石英腔室，易清洁和放入样品；
旋转样品台：可获得更均匀的薄膜样品；
钨丝加热：采用特制钨丝加热器，较高温度可达1500℃；
真空：内置分子泵机组，可获取更高真空；
自动/手动模式：控温模式可选，手动加程序控温可随意选择。
技术参数：
| 项目/型号 | ECH - 1500 -Ⅰ |
| 较高温度 | 1500℃（短期） |
| 长期使用温度 | 1450℃ |
| 控温方式 | 手动、30段程序控温; |
| 样品台转速 | 30rpm |
| 加热形式 | 钨丝 |
| 蒸发源数量 | 单个（其他可定制） |
| 进气口 | φ6mm卡套，可通入惰性气体保护; |
| 真空 | 极限真空5.0*10-5torr |
| 较大功率 | 1.5kW |
| 加热较大电流 | 15A |
| 外形尺寸 | 750*600*1350mm |
产品优势
基于客户需求设计的一款针对电极制备和有机物发光LED的镀膜设备，较常规产品，该产品新增旋转样品台和程序控温功能。精确控制温度200℃-1500℃，较大可蒸镀直径50mm薄膜样品，可用于制备金属薄膜和有机物薄膜。
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