HITACHI日立 离子研磨仪 IM4000II

IM4000 II 配备截面研磨能力达到500µm/h*1以上的高效率离子枪。
因此，即使是硬质材料，也可以高效地制备出截面样品。

IM4000II同时支持截面研磨/平面研磨
截面研磨：即使是由不同硬度以及研磨速度材质所构成的复合材料，也可以通过IM4000Ⅱ制备出平滑的研磨面。可装载Z大20mm(W)×12mm(D)×7mm(H)的样品
平面研磨： 直径约为5mm范围内的均匀加工，应用领域广泛，Z大可装载直径50mm×高度25mm的样品，可选择旋转和摆动（±60度，±90度的摆动）2种加工方法