超高精度3D打印材料-光敏树脂

什么是光敏树脂？

光敏树脂简称UV树脂(胶)，主要由聚合物单体与预聚体组成，辅助某些稀释剂、光引发剂和光敏剂。它在特定波长的紫外光照射下发生聚合反应，从而完成光固化的过程。

光敏树脂的主要成分

光敏树脂是一种特殊类型的树脂，其主要成分通常包括以下几种：

光敏树脂的特点

光敏树脂以其独特的性能特点在众多应用领域中得到广泛应用。以下是其主要特征：

01 低挥发性

光敏树脂在使用和固化过程中产生的气味和挥发物质较少，有利于环境和操作人员的健康与舒适

02 低粘度

有利于树脂材料的流平，有助于提高打印的精度和速度，便于进行高精度结构的打印

03 低收缩率

光固化后分子间的距离会发生变化，样件产生收缩。降低光敏树脂的收缩率，可以减少固化过程中的尺寸变化，提高成品的精度

04 力学性能优异

光敏树脂固化后具有优异的机械性能，包括强度、硬度和耐磨性，适用于制造高质量复杂结构的物件

05 贮存稳定性好

树脂倒入料池后，中途只加不取，因此要求树脂具备较好的储存性和耐候性

06 低生物毒性

由于3D打印与我们的生活息息相关，所以选择光敏树脂原料时，需要考虑其毒性、气味、对皮肤刺激性等因素

应用领域

由于光固化3D光刻技术的快速发展，光敏树脂的开发更加迅速，在微流道芯片、精密医疗器械、消费文创、力学超材料以及微机械结构等领域展现出了巨大的应用潜力，应用广度和深度也在不断拓宽。

以下图片均使用【织雀^®系列3D光刻设备】制作

微流道芯片 

微流道

精密医疗器械

血管支架

消费文创

 东方之门

 力学超材料

微弹簧阵列

微机械结构

 单向阀组件

 针对超高精度3D打印技术发展的市场需求，托托科技自主研发织雀^®系列3D光刻设备，旨在为微纳加工领域带来革命性的技术进步。该设备融合了先进的光刻技术和精密的制造工艺，涵盖1 μm到5 μm的光刻精度。针对多光刻精度需求，设计了自由切换多种精度模式（1 μm / 2 μm / 5 μm）系列设备，为用户提供了更大的灵活性和选择空间。

除了高精度光刻能力外，织雀^®系列3D光刻设备还支持多种树脂和陶瓷材料的打印，适用于各种应用场景，尤其适合于新材料的开发和研究。其对准驳接打印功能支持在已有样品上进行打印变得更加简便高效，特别适用于微纳3D打印与柔性电子器件结合领域。打印设备小可加工料池体积仅15 ml，加工大幅面可达100 mmx100 mm，使其具备了出色的小型化设计和空间利用率。

这款设备的问世，标志着微纳加工领域迈向了一个全新的阶段。

织雀®系列3D光刻设备产品亮点

光刻精度高达1 μm

多精度自由切换(1 μm / 2 μm / 5 μm)

支持多种树脂/陶瓷材料打印(适合新材料开发)

支持在已有样品上进行对准驳接打印

全画幅聚焦扫描

小可加工料池体积15 ml

 织雀^®系列3D光刻设备

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