水冷型磁控溅射仪-郑州科探仪器设备有限公司

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水冷型磁控溅射仪，7寸人机界面，自动手动模式切换控制，最1大功率1000w直流磁控溅射

单靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等

单靶直流磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。

所配电源为1000W大功率直流电源，可用于高能量的金属溅射镀膜，根据实验需求也可以选配其他规格的直流或者射频电源来实现各种材料的镀膜操作。

水冷型磁控溅射仪技术参数；

核心参数

样品室尺寸: φ160mm x 170mm靶材料: Au、Pd、Pt、Au、Pd靶尺寸: 50mm溅射面积: φ50基底真空度: 机械泵 ≤5Pa（5分钟）分子泵≤10^-3Pa

产品优势

水冷型磁控溅射仪，7寸人机界面，自动手动模式切换控制，Z大功率1000w直流磁控溅射。