深圳摩方新材科技有限公司
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摩方精密nanoArch® S140

nanoArch® S140 系统简介

光学精度:10μm;
打印幅面:94×52mm;
超高精度大幅面增材制造设备。


系统性能

性能参数nanoArch® S140 产品规格
光源UV-LED(405nm)
打印材料光敏树脂
光学精度10μm
打印层厚10~40μm
打印样品尺寸模式1:单投影模式:19.2mm(L)×10.8mm(W)×45mm(H)
模式2:拼接模式:94mm(L)×52mm(W)×45mm(H)
模式3:重复阵列模式:94mm(L)×52mm(W)×45mm(H)
打印文件格式STL
系统外形尺寸1000mm(L)×700mm(W)×1600mm(H)
机器外形尺寸650mm(L)×650mm(W)×750mm(H)
重量245kg
电气要求220~240V AC,50/60HZ,2KW



系统特点

  • 超高精度(光学精度高达10μm)

  • 低层厚(10μm~40μm的打印层厚效果对比)

  • 微尺度打印能力

  • 光学监控系统,自动对焦功能

  • 优良的光源稳定性

  • 配套功能强大的打印软件、切片软件


应用案例


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