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冠德科技 ArNanoFab 100 氩离子抛光机

氩离子抛光机
产品简介：
ArNanoFab 100氩离子抛光机可同时实现动态平面抛光和离子切割两种模式，无论软或硬，多孔或致密，脆性或韧性，热敏感或非均质多相复合型材料，都可获得高质量的无损切割截面，此款氩离子抛光机配套电子显微镜、电子（离子）探针、原子力显微镜等产品，实现样品无损界面制备。


  • 离子平面抛光和离子切割一体化技术,一套系统实现两种模式，无需复杂的切换流程，简洁方便1

  • 动态离子切割技术，实现样品的往复平移和旋转，zui大切割长度达10mm ,有效减少投影/遮挡效应2

  • 超大的平面抛光装载尺寸50mm ×25mm(直径×高)，为原位实验等大尺寸样品提供可能3

  • 能量0.5-10kv连续可调，既可满足低能区减少非晶层，又可兼顾高能区大幅提高制样效率


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