XAU-4CS 是一款一机多用型光谱仪,应用了先进的 EFP 算法和微光聚集技术,既保留了 专用测厚仪检测微小样品和凹槽的膜厚性能,又可满足成分分析。
被广泛用于各类产品的质量管控、来料检验和对生产工艺控制的测量使用。
1) 搭载微聚焦加强型 X 射线发生器和先进的光路转换聚焦系统,zui小测量面积达 0.03mm2
2) 拥有无损变焦检测技术,手动变焦功能,可对各种异形凹槽件进行无损检测,凹槽 深度范围 0-30mm
3) 核心 EFP 算法,可对多层多元素,包括同种元素在不同层都可快、准、稳的做出数 据分析(钕铁硼磁铁上 Ni/Cu/Ni/FeNdB,精准检测第一层 Ni 和第三层 Ni 的厚度)
4) 配备高精密微型移动滑轨,可实现多点位、多样品的精准位移和同时检测
5) 装配 DPP+FAST SDD,分辨率更高,测试速度更快,数据更加稳定
6) 涂镀层分析范围:锂 Li(3)- 铀 U(92)
7) 成分分析范围:铝 Al(13)- 铀 U(92)
8) RoHS、卤素有害元素检测
9) 人性化封闭软件,自动判断故障提示校正及操作步骤,避免误操作
10) 标配 4 准直器自动切换
11) 配有微光聚集技术,zui近测距光斑扩散度小于 10%
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