XAD-200 是一款全元素上照式荧光光谱仪,既保留了专用测厚仪检测微小样品和凹槽的 膜厚性能,又可满足RoHS有害元素检测及成分分析,搭载全自动平台实现XYZ轴编程位移, 实现无人值守多点测量,测量软件置入先进的 EFP 算法及解谱技术,解决了诸多业界难题。
被广泛用于各类产品的质量管控、来料检验和对生产工艺控制的测量使用。
1) 搭载微聚焦加强型 X 射线发生器和先进的光路转换聚焦系统,zui小测量面积达 0.03mm2
2) 拥有无损变焦检测技术,手动变焦功能,可对各种异形凹槽件进行无损检测,凹槽 深度范围 0-90mm
3) 核心 EFP 算法,可对多层多元素,包括同种元素在不同层都可快、准、稳的做出数 据分析(钕铁硼磁铁上 Ni/Cu/Ni/FeNdB,精准检测第一层 Ni 和第三层 Ni 的厚度)
4) 配备全自动可编程移动平台,可实现无人值守,对成百上千个样品进行全自动检测
5) 涂镀层分析范围:锂 Li(3)- 铀 U(92)
6) 成分分析范围:铝 Al(13)- 铀 U(92)
7) RoHS、卤素有害元素检测
8)人性化封闭软件,自动判断故障提示校正及操作步骤,避免误操作
9) 标配四准直器自动切换
10) 配有微光聚集技术,zui近测距光斑扩散度小于 10%
工作条件
工作温度:15°C-30°C 电源:交流 220V±5V
相对湿度:<70%,无结露 功率:120W(不含计算机)
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